台积电最近推出了N4P工艺,这是5纳米(N5)技术平台的性能增强。N4P加入了该行业最先进和广泛的先进技术流程组合。
随着N5、N4、N3和最新的N4P的加入,台积电的客户将在其产品的功率、性能、面积和成本方面有多种引人注目的选择。
作为台积电5nm系列的第三大改进,N4P将提供比原始N5技术提高11%的性能,比N4提高6%。与N5相比,N4P的功率效率将提高22%,晶体管密度也将提高6%。
此外,N4P通过减少掩模数量降低了工艺复杂性,并改善了晶圆周期时间。N4P显示了台积电对工艺技术持续改进的追求和投资。
台积电的客户通常会投入宝贵的资源为他们的产品开发新的IP、架构和其他创新。N4P工艺旨在轻松迁移基于5nm平台的产品,这使客户不仅能够更好地最大化他们的投资,还将为他们的N5产品提供更快、更节能的更新。
N4P设计将得到台积电硅IP和EDA综合设计生态系统的良好支持。随着台积电及其开放式创新平台®合作伙伴帮助加快产品开发周期,基于N4P技术的首批产品预计将在2022年下半年推出。
“通过N4P,台积电加强了我们先进逻辑半导体技术的投资组合,每种技术都有其独特的性能、功率效率和成本。N4P经过优化,为高性能计算和移动应用提供了进一步增强的先进技术平台,”台积电业务发展高级副总裁张凯文博士表示。“在N5、N4和N3技术的所有变种中,我们的客户将拥有最终的灵活性,并为他们的产品提供无与伦比的属性组合选择。”
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